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精密光學平臺廣泛應用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業的精密試驗儀器、光學平臺廠家，設備振動隔離的關鍵裝置中，其動態力學特性的好壞直接影響試驗結果的準確性和可靠性。
精密光學平臺分為兩大類：氣囊減振及機械阻尼減振,氣囊減振可獲得較低的頻率（0、7-3）Hz,機械阻尼減振效果稍遜(3-6)Hz所采用不同的方法減振效果也不同,在選擇精密光學平臺的時候要考慮所要求的精密光學平臺其減振性能與實驗采集數據的精密性相適應,精密光學平臺調試精密度與穩定性能也直接影響數據的正常采集。
精密光學平臺的桌腿中裝有氣動單元，它與平臺的材料及設計相結合可以減少環境中的物體（例如人員走動、建筑物內其它設備以及行駛的汽車等）造成的大幅度低頻振動。這些外部力會使平臺發生剛體運動，這種運動本質上是2維的并且對大多數光學實驗不會造成影響。在千赫茲頻段的高頻振動也不會明顯地影響平臺的穩定性。然而，造成精密光學平臺表面彎曲的中頻共振及彎曲振動會對光學實驗的準直造成極大影響。
優質的精密光學平臺不僅需要高精度的機器設備來加工，更需要有高精度檢測手段與檢測儀器來保證，也只有優質的光學平臺才能保證高精度的科學實驗、研究的正常進行。
1、試驗目的：檢測氣墊隔振垂直方向和水平固有頻率、振幅、振動速度、振動效果。
2、試驗方式：采用三點均布試驗。
3、試驗設備和試件：氣墊隔振器三只、質量載體一件。
4、測試儀器振動分析；位移傳感器2只；電腦；采集分析軟件。
5、試驗：采用多點敲擊法瀾可得固有頻率，振幅，振動速度，振動效果。
